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雙坩堝區(qū)熔連續(xù)漏注裝置的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:8036708

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技術(shù)領(lǐng)域本實用新型涉及光學(xué)材料及玻璃材料的制備技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及坩堝下降法和區(qū)熔法燒結(jié)裝置的改進。背景技術(shù)現(xiàn)有光學(xué)材料的燒結(jié)裝置的熔煉方式,在晶體生長中采用坩堝下降法和區(qū)熔法這兩種常見生長方法區(qū)熔法是將固態(tài)原料通過熔區(qū)而使原料通過熔化和結(jié)晶兩個過程定向生長為晶體;下降法是將坩堝中裝有的已經(jīng)熔化的原料,使坩堝在下降的過程中經(jīng)過一個合適的溫度梯度使坩堝中的熔體由下向上逐漸生長為單晶體。區(qū)熔法只適用于對產(chǎn)量要求不大的單晶或特種晶體的生長范圍,不能生長大直徑的單晶或晶體,產(chǎn)量較低?,F(xiàn)有的單坩堝設(shè)計單產(chǎn)量最大約為坩堝容積的...
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