技術(shù)編號(hào)：8032713
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及，其中諸如工件(將被處理的物體)蝕刻、化學(xué)蒸汽沉積(CVD)、清洗、灰化、表面改性等的不同的表面處理通過(guò)等離子化加工氣體并將被等離子化的氣體施加到諸如半導(dǎo)體晶片的工件上而進(jìn)行。背景技術(shù) 例如，半導(dǎo)體晶片是通過(guò)使用旋涂機(jī)等的沉積過(guò)程(薄膜形成過(guò)程)進(jìn)行蝕刻過(guò)程。旋涂機(jī)是用于在半導(dǎo)體晶片上形成諸如絕緣薄膜和光致抗蝕劑薄膜的薄膜的裝置。半導(dǎo)體晶片被旋轉(zhuǎn)，液體材料被落到晶片的上表面(前表面)的中心部分上，這樣液體材料通過(guò)離心力在整個(gè)表面上擴(kuò)展。通過(guò)這樣做，薄膜不僅覆蓋晶片的上表面的整個(gè)表面(內(nèi)側(cè)面積)，而...
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