技術編號：7508341
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明一般地涉及半導體襯底處理系統(tǒng)，更具體而言，涉及用于使耦合到單個電極的多個RF源的阻抗與等離子體的阻抗相匹配的匹配電路。背景技術 等離子增強型半導體處理腔被廣泛用于集成器件的制造。在大多數(shù)等離子增強型半導體腔中，多個射頻(RF)生成器被用于形成和控制等離子體。某些等離子增強型處理腔將來自多個源的RF功率饋送到將功率耦合到等離子體的單個電極。但是，在這些實施例中，每個RF源一般要求單獨的饋送結構(例如單獨的RF生成器，匹配輸出、到電極的同軸電纜等等)。因...
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該類技術注重原理思路，無完整電路圖，適合研究學習。