技術(shù)編號：7250763
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。一種沉積介電薄膜的方法可包括以下步驟沉積薄介電層；停止沉積介電層，以及改變腔室中的氣體（如果需要）；在基板附近誘導(dǎo)和維持等離子體，以提供對所沉積的介電層的離子轟擊；以及重復(fù)所述沉積、停止、以及誘導(dǎo)和維持步驟，直到沉積了所需厚度的電介質(zhì)為止。這種方法的一種變體可包括以下步驟來代替所述重復(fù)步驟沉積較低品質(zhì)的厚介電層；沉積高品質(zhì)的薄介電層；停止沉積介電層，以及改變腔室中的氣體（如果需要）；以及在基板附近誘導(dǎo)和維持等離子體，以提供對所沉積的介電層的離子轟擊。所述厚...
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