技術(shù)編號:7244307
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及晶體半導(dǎo)體襯底(諸如,例如結(jié)晶硅襯底)的。背景技術(shù)在光伏工業(yè)中所使用的表面紋理化的方法經(jīng)常是耗時(shí)且效率差的。為了獲得具有高轉(zhuǎn)換效率的光伏電池,電池的一側(cè)(如,前側(cè)或前表面)優(yōu)選地被紋理化,同時(shí)另一側(cè)(如,后表面)被拋光。前側(cè)被紋理化以充分減少光反射,以使入射光的大部分量由光伏電池所捕捉。后側(cè)被拋光,以使其用用作反射未被吸收而穿透襯底的光(如,紅外光)的鏡子。被后側(cè)所反射的光可穿過襯底兩次,藉此增加被吸收的機(jī)會(huì)并創(chuàng)建電荷載流子。在高效的硅光伏電池的...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。