技術(shù)編號：7237892
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及配置在用來對半導(dǎo)體晶片等的基板施行蝕刻處理等的規(guī)定的 等離子體處理的處理室內(nèi)的聚焦環(huán)和等離子體處理裝置。背景技術(shù)以往，例如在半導(dǎo)體器件的微細的電路的制造工序中，多使用蝕刻處理 裝置等的等離子體處理裝置。在這樣的等離子體處理裝置中，在其構(gòu)成為可對內(nèi)部進行氣密密封的處 理室內(nèi)配置半導(dǎo)體晶片等的被處理基板，使得在該處理室內(nèi)產(chǎn)生等離子體， 使該等離子體作用到被處理基板上，實施蝕刻等的等離子體處理，此外，在這樣的等離子體處理裝置內(nèi)，具有使得把作為被處理基板...
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