技術(shù)編號：7235251
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及基板載置臺、基板載置臺的制造方法、基板處理裝置、 流體供給機構(gòu)，尤其是涉及適合半導體基板等的等離子體處理的基板 載置臺、基板載置臺的制造方法、基板處理裝置、流體供給機構(gòu)。背景技術(shù)迄今為止，在對半導體基板等實施等離子體蝕刻等的等離子體處 理的基板處理裝置等中，在載置基板的基板載置臺中具備用于向基板 背面一側(cè)供給氦氣等冷卻氣體的流體供給機構(gòu)已為大家所熟知。另外， 在上述基板載置臺上，作為構(gòu)成靜電卡盤的絕緣層等而在基板載置面 上設(shè)置Al203等陶瓷噴鍍...
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