技術(shù)編號(hào)：7206147
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明實(shí)施例大致關(guān)于處理腔室，其功率供應(yīng)在與氣體供應(yīng)分隔位置處耦接至處理腔室。背景技術(shù)隨著較大平板顯示器與太陽能面板的需求持續(xù)增加，因此基板與處理腔室的尺寸 必然得提高。隨著處理腔室尺寸提高，有時(shí)需要較高的RF電流以補(bǔ)償RF電流的消散(隨 著RF電流移動(dòng)離開RF源而發(fā)生)。一種沉積材料于平板顯示器或太陽能面板的基板上的 方法是等離子體增強(qiáng)化學(xué)汽相沉積(PECVD)。等離子體增強(qiáng)化學(xué)汽相沉積中，可透過噴頭將 處理氣體導(dǎo)入處理腔室并由施加至噴頭的RF電流點(diǎn)燃成...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。