技術(shù)編號(hào)：7165738
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及在靜電吸盤(pán)上支持晶片的方法、從靜電吸盤(pán)上移開(kāi)晶片的方法及一種靜電吸盤(pán)裝置，它適合用于刻蝕系統(tǒng)、化學(xué)汽相淀積系統(tǒng)、濺射系統(tǒng)等，這些系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于薄膜生長(zhǎng)及圖案形成的具代表性的制造半導(dǎo)體及其它電子裝置的精細(xì)工藝中。背景技術(shù) 通常一個(gè)半導(dǎo)體制造系統(tǒng)如刻蝕系統(tǒng)、化學(xué)汽相淀積系統(tǒng)、濺射系統(tǒng)等具有一個(gè)靜電吸盤(pán)，用于將晶片固定在特定的位置以使晶片可以在制造系統(tǒng)中被加工。這樣的靜電吸盤(pán)包括由絕緣體形成的介質(zhì)主體和由導(dǎo)體形成的用于在介質(zhì)主體內(nèi)產(chǎn)生介質(zhì)極化的電極。電...
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