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在制造半導(dǎo)體器件過程中清洗半導(dǎo)體晶片的波形花紋結(jié)構(gòu)的方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:7159606

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背景技術(shù)拋光后,清洗晶片。圖5舉例說明了清洗金屬波形花紋結(jié)構(gòu)的傳統(tǒng)方法。圖5的步驟S1中,傳統(tǒng)的清洗方法首先除去晶片表面的顆粒。拋光晶片后,在刷洗單元中除去顆粒。在刷洗單元中,以刷洗器進(jìn)行表面清洗處理,所用化學(xué)溶液為氨水。在同樣的刷洗單元中,用純水進(jìn)行沖洗處理。隨后,清洗方法繼續(xù)除去晶片表面的金屬雜質(zhì)。在另一個刷洗單元中,除去金屬雜質(zhì)。在步驟S2中,在刷洗單元中,用刷洗器進(jìn)行表面清洗處理,所用化學(xué)溶液為酸溶液。在同樣的刷洗單元中,用純水進(jìn)行沖洗處理。除去金...
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