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技術(shù)編號(hào)：7144935

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本發(fā)明涉及一種用于對(duì)載置在基板載置臺(tái)上的比較大型的基板進(jìn)行冷卻的。背景技術(shù)在以液晶顯示裝置(LCD)為代表的比較大型的FPD (FlatPanel Display平板顯示器)、例如第7代以后的FPD的制造工序中，公知有用于對(duì)FH)用的基板實(shí)施規(guī)定的處理、例如等離子體處理的基板處理裝置。該基板處理裝置具有基板載置臺(tái)，其用于在處理室(以下，稱(chēng)作“腔室”)內(nèi)載置基板；上部電極，其以隔著處理空間與該基板載置臺(tái)相對(duì)的方式配置。向基板載置臺(tái)供給等離子體生成用的高頻電力...
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