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技術(shù)編號：7119459

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本實用新型涉及一種器件結(jié)構(gòu)，特別涉及一種基于B⑶工藝的GCNMOS ESD (柵耦合電容N型金屬氧化物半導(dǎo)體，靜電放電)器件結(jié)構(gòu)。技術(shù)背景 隨著集成電路的發(fā)展，ESD (靜電放電)對于IC (集成電路)芯片的影響日益嚴重，特別是在B⑶工藝下，大多數(shù)工藝加入了硅化注入技術(shù)，雖然大大降低了器件接觸電阻，但同時也降低了 ESD器件的可靠性。如何在不增加額外掩膜版在基礎(chǔ)上，設(shè)計出一種面積利用率高，ESD (靜電放電)電流能力強，低成本，又能避免BCD工藝下硅化注入...
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