技術編號：7117454
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及氣體激光器，具體涉及氣體激光器的放電腔，特別是具有微流道結構的放電腔及相應的氣體激光器。本實用新型特別適合應用于需要具有良好的放電區(qū)流場狀態(tài)的準分子氣體激光器的場合。技術背景 氣體激光器，尤其是準分子激光器是最佳的光刻用激光光源。典型的準分子激光器主要由放電腔、高壓脈沖源兩部分組成，而放電腔主要由放電電極、氣體循環(huán)系統(tǒng)和散熱系統(tǒng)組成。準分子激光器在高重復頻率下工作時，需要在放電區(qū)形成高速氣流，帶走已經(jīng)放過電的廢氣，不斷為放電腔補充新鮮的工作氣...
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