技術(shù)編號(hào)：7114225
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種半導(dǎo)體介質(zhì)刻蝕機(jī)，尤其涉及刻蝕電極機(jī)中的下電極裝置。背景技術(shù)電介質(zhì)刻蝕機(jī)是半導(dǎo)體芯片加工的關(guān)鍵設(shè)備，而電介質(zhì)刻蝕機(jī)中實(shí)現(xiàn)晶圓刻蝕功能的是上、下兩個(gè)電極組成的電極裝置。其中上電極接1000V左右的正電，實(shí)現(xiàn)對(duì)等離子刻蝕氣體的分配和控制功能，下電極與大地連接，也稱(chēng)為負(fù)極。上、下兩電極間形成高壓電場(chǎng)對(duì)通過(guò)上電極的等離子工作氣體進(jìn)行加速，經(jīng)加速后的工作氣體對(duì)放置在下電極上的晶圓進(jìn)行高速轟擊，從而產(chǎn)生刻蝕作用。為了實(shí)現(xiàn)所述的工作原理，要求下電極具有...
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