技術(shù)編號(hào):7112298
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型是有關(guān)于一種容器,特別是指一種用于存放半導(dǎo)體元件的容器。背景技術(shù)現(xiàn)代的先進(jìn)晶圓代工廠或半導(dǎo)體制造廠,在晶圓制造技術(shù)上不斷地突破,現(xiàn)已達(dá)到90奈米以下的制程,隨著制程線寬的的縮小與元件積集度的提高,單位晶圓內(nèi)可制造的元件數(shù)目增加。但是這些高積集度的半導(dǎo)體元件對(duì)于污染物的容忍度下降,即便是極微量的污染物(微粒、粉塵、有機(jī)物、氣體或揮發(fā)物等)都會(huì)導(dǎo)致半導(dǎo)體元件的缺陷,甚至使半導(dǎo)體元件受靜電干擾而短路,造成損失。在一般的半導(dǎo)體制程中,都提供無(wú)塵室)的環(huán)境...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。