技術(shù)編號:7054618
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請公開了一種Mg擴(kuò)散的LED外延片、生長方法及LED結(jié)構(gòu),該LED外延片結(jié)構(gòu)從下至上依次為襯底,GaN緩沖層,非摻雜GaN層,n型GaN層,多量子阱層,P型AlGaN層,在所述的P型AlGaN層上為漸變摻雜Mg的P型GaN層,所述的P型GaN層為進(jìn)行了Mg擴(kuò)散處理的GaN層。進(jìn)一步提供一種LED結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是在生長完一小段漸變摻雜Mg的p型GaN后停止生長,再通入大量的Mg對前段p型GaN進(jìn)行Mg的擴(kuò)散處理,通過擴(kuò)散的方式Mg更好地取代Ga位,同...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲(chǔ)備,不適合論文引用。