技術(shù)編號:7040187
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提出,通過在一上表面設(shè)置有背柵的襯底的上表面設(shè)置有背柵氧化層;并在背柵氧化層上設(shè)置浮柵結(jié)構(gòu),在很小的電壓就能完成數(shù)據(jù)寫入,并且采用的浮體單元自動刷新技術(shù),保持時間大大增加,顯著降低了功耗,同時由于存儲單元尺寸也非常小,集成度也非常高。用本發(fā)明單管存儲結(jié)構(gòu)替代原來六管存儲單元結(jié)構(gòu)的靜態(tài)隨機(jī)存儲器可大幅降低CMOS處理器芯片面積,并且適用于28/20/14nm甚至以下工藝節(jié)點,成本明顯降低,功耗也顯著下降。專利說明[0001]本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。