技術(shù)編號(hào):7036954
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。一種用于半導(dǎo)體等離子體加工裝置中的襯底支撐組件的加熱板,包括布置在可擴(kuò)展的多路復(fù)用布局中的多個(gè)可獨(dú)立控制的平面加熱器區(qū)以及獨(dú)立控制所述平面加熱器區(qū)并給其獨(dú)立供電的電氣設(shè)備。并入加熱板的襯底支撐組件包括靜電夾緊電極和溫控基板。用于制造加熱板的方法包括將具有平面加熱器區(qū)、分支傳輸線、公共傳輸線和通孔的陶瓷或聚合物片材粘合在一起。加熱板能通過(guò)交流電或直流相變功率驅(qū)動(dòng),這樣的優(yōu)點(diǎn)是使襯底支撐組件上方的直流磁場(chǎng)效應(yīng)最小并且減小直流磁場(chǎng)引起的等離子體不均勻性。專利說(shuō)明...
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