技術(shù)編號(hào)：7011698
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。通過器件隔離結(jié)構(gòu)隔離的半導(dǎo)體開關(guān)器件。本發(fā)明提供了一種器件，包括在半導(dǎo)體襯底上方形成的柵極結(jié)構(gòu)，柵極結(jié)構(gòu)具有延伸件；器件隔離結(jié)構(gòu)形成在半導(dǎo)體襯底中并且與柵極結(jié)構(gòu)鄰近，其中，延伸件位于部分器件隔離結(jié)構(gòu)上方；以及位于柵極結(jié)構(gòu)的兩側(cè)上的源極/漏極區(qū)，源極/漏極區(qū)形成在器件隔離結(jié)構(gòu)中的間隙中并且被柵極結(jié)構(gòu)的延伸件部分包圍繞。本發(fā)明還提供了一種形成晶體管器件的方法。專利說明通過器件隔離結(jié)構(gòu)隔離的半導(dǎo)體開關(guān)器件 [0001]本發(fā)明總體涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域，更具體地，涉...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。