技術(shù)編號(hào)：6988515
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及利用微透鏡陣列對激光進(jìn)行聚光以僅對非晶硅膜的薄膜晶體管形成區(qū)域進(jìn)行退火的激光退火方法，詳細(xì)而言，涉及跟蹤被搬送的基板的移動(dòng)而移動(dòng)微透鏡陣列以提高激光的照射位置精度的激光退火方法及激光退火裝置。背景技術(shù)現(xiàn)有的激光退火方法如下利用微透鏡陣列形成多條激光束，并且，對應(yīng)每條光束形成焦點(diǎn)，將該光束的各焦點(diǎn)轉(zhuǎn)印到非晶硅膜表面?zhèn)纫允蛊涑上?，通過朝向非晶硅膜表面照射光束來進(jìn)行激光處理，從而使薄膜晶體管(以下稱為“TFT”)形成區(qū)域的非晶硅膜多晶硅化(例如參照專利...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。