技術(shù)編號(hào)：6960748
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種監(jiān)測(cè)等離子體處理裝置等中的容器內(nèi)的等離子體的技術(shù)，尤其是涉及測(cè)定等離子體中的電子密度或來自等離子體的發(fā)光的等離子體監(jiān)測(cè)方法和裝置。背景技術(shù)在半導(dǎo)體器件或FPD (Flat Panel Display)的制造加工中的蝕刻、堆積、氧化、濺射等處理中，為了在較低溫度下使處理氣體進(jìn)行良好的反應(yīng)，多利用等離子體。通常，在等離子體處理裝置中，為了得到高的成品率，必需在基板的被處理面中均勻?qū)嵤┑入x子體處理，為此，必需生成等離子體，使等離子體密度、即電子密度...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。