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本發(fā)明涉及作為用于通過CVD法、ALD法制造釕薄膜或釕化合物薄膜的原料 使用的有機(jī)釕化合物，具體涉及常溫下為液體且處理性良好的有機(jī)釕化合物。背景技術(shù)釕或釕化合物被用作DRAM、 FERAM等半導(dǎo)體器件的薄膜電極材料。作為 這些薄膜的制造方法，采用CVD法(化學(xué)氣相沉積法)、ALD法(原子層沉積法) 等化學(xué)氣相沉積法。而且，作為化學(xué)氣相沉積法中所使用的原料化合物，目前 已知多種有機(jī)釕化合物，例如下式的雙(乙基環(huán)戊二烯基)釕是其中實際使用較 多的化合物。專利文...
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