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寬帶隙半導體器件的制作方法技術資料下載

技術編號:6943522

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本發(fā)明涉及一種功率半導體器件,其中漂移區(qū)由帶隙比硅(Si)的帶隙寬的半導 體材料(下文中稱為WBG半導體)構成。背景技術已經(jīng)報道(參見例如日本專利申請公開No. 11-354786)通過使用諸如碳化硅(下 文稱為SiC)或氮化鎵(下文稱為GaN)之類的帶隙比硅的帶隙寬的半導體作為用于功率開 關的場效應晶體管(下文稱為功率M0SFET)的半導體材料,能實現(xiàn)比硅的導通電阻低得多 的導通電阻。所謂的IGBT通常用作功率開關的半導體器件,而且逆變器是其應用之一。圖...
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