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技術(shù)編號(hào)：6938717

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本發(fā)明涉及一種金屬連線中缺陷的檢測(cè)方法，特別涉及一種彎曲結(jié)構(gòu)金屬連線缺 陷的檢測(cè)方法。背景技術(shù)目前，在半導(dǎo)體集成電路工藝制造晶圓的過程中，晶圓內(nèi)金屬連線的孔洞或雜質(zhì) 顆粒缺陷是主要失效模式，對(duì)晶圓成品率有很大影響。因此，針對(duì)生產(chǎn)過程中缺陷的監(jiān)控設(shè) 計(jì)了晶圓允收測(cè)試(WAT，wafer acceptance test)以及可靠性檢測(cè)。激光束誘發(fā)阻抗變化(OBIRCH，optical beam induced resistance change)是利 用激光束...
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