技術編號:6929972
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及半導體制造領域,特別涉及。 背景技術在超大規(guī)模集成電路工藝中,有著熱穩(wěn)定性、抗?jié)裥缘亩趸枰恢笔墙饘倩ミB 線路間使用的主要絕緣材料,金屬鋁則是芯片中金屬互連線路的金屬層的主要材料。然而, 由于元件的微型化及集成度的增加,電路中金屬層數目不斷增多,金屬互連線路架構中的 電阻(R)及電容(C)所產生的寄生效應造成了嚴重的傳輸延遲(RC Delay),在130納米及 更先進的技術中成為電路中訊號傳輸速度受限的主要因素。因此,在降低金屬層電阻方面,由于...
注意:該技術已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權人授權前,僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權,增加技術思路,做技術知識儲備,不適合論文引用。