技術(shù)編號：6905289
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造，特別涉及一種具有接觸刻蝕停止層的半導(dǎo)體器件及其形成方法。 背景技術(shù)半導(dǎo)體集成電路的制作是極其復(fù)雜的過程，目的在于將特定電路所需的各種電子 組件和線路，縮小制作在小面積的晶片上。其中，各個組件必須藉由適當(dāng)?shù)膬?nèi)連導(dǎo)線作電性 連接，才能發(fā)揮所期望的功能。 由于集成電路的制作向超大規(guī)模集成電路(ULSI， Ultra Large Scalelntegration)發(fā)展，其內(nèi)部的電路密度越來越大，隨著芯片中所含元件數(shù)量不斷增 加，實際上就減少了...
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