技術(shù)編號(hào)：6896675
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及掩模坯料(mask blank)的制造方法及光掩模(photomask)的制造方法。背景技術(shù)在用于制造FPD (平板顯示器)顯示器的掩模坯料(FPD用掩模坯料) 中，在遮光性膜、半透光性膜等薄膜上形成抗蝕劑膜。該抗蝕劑膜在所述 薄膜的蝕刻時(shí)作為蝕刻掩模使用。但是，在FPD用掩模坯料中，應(yīng)形成抗 蝕劑膜的所述薄膜表面的面積大，因此，例如，與LSI用掩模坯料等相比， 容易發(fā)生抗蝕劑膜的涂敷不均或面內(nèi)膜厚均勻性的變差。另外，在FPD用光掩模等中，近年來...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。