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功率場(chǎng)效應(yīng)管晶片彎曲的解決方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):6892888

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本發(fā)明涉及一種功率場(chǎng)效應(yīng)管的晶片接觸制程方法,且特別涉及一種功率 場(chǎng)效應(yīng)管在接觸制程中減少晶片彎曲程度的方法。,f狄功率場(chǎng)效應(yīng)管的晶片在曝光后的顯影制程時(shí),會(huì)發(fā)生微影機(jī)器的真空泵無(wú) 法把晶片吸住,制程被終止,晶片被報(bào)廢的情況,原因是功率場(chǎng)效應(yīng)管的晶片 發(fā)生了彎曲的現(xiàn)象。而晶片彎曲的原因主要是接觸制程中有一道工序?yàn)橹谱鹘?觸凹陷區(qū)的制程,它是在接觸蝕刻之后,在硅層上還要挖一定深度,以隔開(kāi)該 接觸凹陷區(qū)兩側(cè)的離子注入?yún)^(qū)域,該凹陷區(qū)用以形成接觸區(qū)引出導(dǎo)線與外部元...
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