技術編號：6875238
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及對例如半導體晶體或LCD基板(液晶顯示屏用玻璃基板)等基板進行抗蝕劑液的涂敷處理、和曝光后的顯影處理等的。背景技術 在半導體器件和LCD基板的制造工序中，利用顯影處理、即稱為光刻法的技術，形成電路圖形，所述顯影處理指在作為被處理體的基板上形成規(guī)定的膜后，涂敷作為處理液的光致抗蝕劑(以下稱為抗蝕劑)而形成抗蝕劑膜，與電路圖形對應地對抗蝕劑膜進行曝光。在該光刻法技術中，基板經過下述一連串處理，而在抗蝕劑層形成規(guī)定的電路圖形，所述一連串處理的主要工序為...
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