技術(shù)編號(hào)：6848623
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造工藝中形成鋁特征圖案的方法，具體涉及利用化學(xué)機(jī)械研磨配合蝕刻制程形成金屬鋁特征圖案的方法。背景技術(shù) 在半導(dǎo)體制造工藝中，常規(guī)的鋁圖案定義都采用反應(yīng)性離子蝕刻(RIE)來(lái)蝕刻鋁，這種方法很容易使鋁的反射率下降，并且容易出現(xiàn)集成電路圖案中氧化物層凹陷以及殘余物缺陷。用反應(yīng)性離子蝕刻形成鋁特征圖案是一種成熟的工藝，但是其中同樣存在許多缺點(diǎn)，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該能夠了解，例如在進(jìn)行深蝕刻(etchback)以去除鋁表面的電介質(zhì)時(shí)，很容易在電介質(zhì)層...
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