技術(shù)編號：6846381
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及用于外延有用層的襯底，所述有用層由選自半導(dǎo)體材料的材料制成。背景技術(shù) 襯底與其支撐的有用層緊密結(jié)合，并且其可由此對有用層的結(jié)構(gòu)具有重大影響，尤其是從許多方面按照第一方面，在與待生長的有用層的界面附近，外延襯底的晶體結(jié)構(gòu)，特別是襯底在該位置具有的晶體本性和晶格參數(shù)，會極大地影響有用層的晶體結(jié)構(gòu)。在襯底上外延有用層的過程中特別用到這一方面，在該過程中，有用層的晶格參數(shù)與襯底的晶格參數(shù)相對準(zhǔn)(in registration with)。為了不在待生長的...
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