技術編號：6834529
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種光刻裝置和一種器件制造方法。背景技術 光刻裝置是在基底的靶部上施加預期圖案的設備。例如，可以在集成電路(ICs)，平板顯示器及其它包含精細結構的器件的制造過程中使用光刻裝置。在常規(guī)的光刻裝置中，還稱為掩?；騽澗€板的構圖陣列可以用來產生對應于IC(或其它器件)單個層的電路圖案，該圖案被成像到基底(例如，硅晶片或玻璃片)上的靶部(例如包含一個或幾個電路小片(dies)的部分)上，所述基底具有輻射敏感材料(抗蝕劑)層。取代掩模的是，所述構圖陣列可以...
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