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在互連結構中低電阻通道接觸的形成的制作方法技術資料下載

技術編號:6833542

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本發(fā)明一般地涉及集成電路(ICS)。更具體地講,本發(fā)明涉及互連結構,包括用鑲嵌的方法制造的多層互連結構,其中通道接觸電阻/必須是低的。本發(fā)明敘述基于銅鑲嵌布線,制造改進了的互連結構的各種方法和裝備,這種互連結構具有減小了的通道接觸電阻,以及無論在IC操作時或IC器件的可靠應力下都具有穩(wěn)定的電阻。背景技術 一般講,半導體器件包括許多電路,這些電路形成一個制造在一硅單晶基片上的集成電路,通常要給定一個復雜的信號路徑網絡以把分布在基片表面上的電路元件連接起來。這...
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