技術(shù)編號：6832112
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明大體上涉及微成影。更特別地，本發(fā)明涉及無掩模微成影。背景技術(shù) 微成影用以在襯底表面上產(chǎn)生特征的工藝。這些襯底包含在平板顯示器(例如液晶顯示器)、電路板、各種集成電路等的制造過程中所使用的襯底。這些應(yīng)用中經(jīng)常使用的襯底是半導(dǎo)體晶片或玻璃襯底。雖然在此僅為例舉而描述半導(dǎo)體晶片，但是，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)了解本說明也可以應(yīng)用至其它類型的襯底。在微成影期間，配置于晶片臺上的晶片會曝露于微成影設(shè)備中曝光裝置投射于晶片表面上的圖像。雖然在光刻的情況下使用曝光裝置，但...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。