技術(shù)編號(hào)：6818302
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于現(xiàn)代電子技術(shù) 領(lǐng)域，特別涉及一種在絕緣基材表面直接沉積金屬線路 圖案的方法。背景技術(shù)在絕緣基材上制備金屬線路圖案是電子、光學(xué)、機(jī)械器件如顯示器、生物傳感器等 的非常重要的一個(gè)生產(chǎn)步驟?，F(xiàn)在成熟的制備圖案化金屬線路的方法，通常是通過(guò)光刻、電 子束曝光、聚焦離子束曝光等技術(shù)在真空蒸發(fā)、濺射、電鍍或無(wú)電鍍沉積披覆而成的金屬膜 上獲得相應(yīng)的圖案，然后再蝕刻而成。雖然這些技術(shù)已經(jīng)能夠制得比較精良的金屬線路圖 案，但是發(fā)展一種更為簡(jiǎn)便、低成本、綠色低碳的金屬...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。