技術(shù)編號：6218583
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。公開了用于檢測晶片的斜面上的污染物的XRF測量設(shè)備。XRF(x射線熒光)測量設(shè)備(1)包括x射線源(2)，用于產(chǎn)生x射線(4)，x射線光學(xué)元件(3)，用于將來自x射線源(2)的x射線(4)引導(dǎo)至樣品(5)，樣品(5)，和EDS(能量色散譜)檢測器(7)，用于檢測來自樣品(5)的熒光x射線(14)，其特征在于，樣品(5)是晶片(6)，特別是硅晶片，其中，x射線光學(xué)元件(3)被定位為將x射線(4)引導(dǎo)至晶片(6)的斜面(12)上，并且x射線源(2)加上x射線光...
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