技術(shù)編號：6172929
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了目標(biāo)定位方法，包括在目標(biāo)的活動范圍圖中生成多個采樣點；根據(jù)多個采樣點的初始電磁場強度及待定位目標(biāo)的當(dāng)前電磁場強度，獲取待定位目標(biāo)在多個采樣點的條件概率密度；根據(jù)條件概率密度對采樣點進行重采樣更新；根據(jù)更新后的采樣點的坐標(biāo)值獲取待定位目標(biāo)的位置。本發(fā)明可以解決室內(nèi)定位受檢測環(huán)境影響而不能精確定位的問題，從而使得對室內(nèi)目標(biāo)的定位或跟蹤更準(zhǔn)確。專利說明目標(biāo)定位方法及系統(tǒng) [0001] 本發(fā)明涉及室內(nèi)定位、仿真領(lǐng)域，特別涉及目標(biāo)定位方法及系統(tǒng)。 ...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。