技術(shù)編號：6148125
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是有關(guān)于一種基底傾斜和基石傾斜的測量方法和系統(tǒng)，且特別是有 關(guān)于一種應(yīng)用于投影光刻系統(tǒng)調(diào)焦調(diào)平的基底傾斜和基石傾斜的測量方法和系 統(tǒng)。背景技術(shù)隨著電子產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展，集成電路的應(yīng)用越發(fā)廣泛，隨之而來的便是其 生產(chǎn)的高精度性。而投影光刻機(jī)是集成電路生產(chǎn)各環(huán)節(jié)中最關(guān)鍵的設(shè)備，光刻 技術(shù)是大規(guī)模集成電路制造的基礎(chǔ)，已經(jīng)成為推動(dòng)集成電路發(fā)展的核心驅(qū)動(dòng)力。投影光刻機(jī)的目的是將掩模圖形清晰地成像于涂有光刻膠的基底(例如 硅片)上，要達(dá)到此目的必須保證基底上的啄光...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。