技術(shù)編號：6114365
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光學(xué)干涉儀。背景技術(shù) 光學(xué)干涉儀適用于要求很嚴(yán)的精密測量。例如，光學(xué)干涉儀用來確定在半導(dǎo)體晶片的光刻處理中使用的光學(xué)元件的移動，其需要納米(10-9m)數(shù)量級和更高的精度。光學(xué)干涉儀包括兩個(或兩個以上)光束。一個光束理想地沿固定的光學(xué)路徑(稱為參考路徑)導(dǎo)向。該光束被稱為參考束。另一個光束沿著一個光路被導(dǎo)向連接至可移動元件的測量反射器。該光束稱為測量束，其穿行的路徑稱為測量路徑。在許多已知的光學(xué)干涉儀中，參考束和測量束具有互相正交的線性偏振態(tài)(...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。