技術編號：5962885
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本應用涉及集成電路(IC)計量學尤其涉及選擇一種用于光學計量的假定剖面和參數(shù)。背景技術 隨著目前對IC器件向更小幾何形狀的驅動，隨著特征尺寸越來越小，特征測量隨之更加困難。然而，為了確定特征尺寸是否在可接受的范圍內，以及例如一種特殊的制作過程是否會導致特征的側壁為錐形、垂直、T-topped、倒凹或有底腳，獲取光柵或周期結構的尺寸是非常重要的。傳統(tǒng)地，樣品經解理并用掃描電子顯微鏡(SEM)或類似設備檢測。截面SEM方法特有地緩慢、昂貴并且是破壞性的，而臨界...
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