技術(shù)編號(hào)：5945164
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明所涉及的是在原有測量材料光學(xué)非線性的4f相位相干成像系統(tǒng)的基礎(chǔ)上將其改進(jìn)為可高精度測量材料線性折射率的測量方法，屬于光子學(xué)材料和光學(xué)信息處理領(lǐng)域。背景技術(shù)折射率是介質(zhì)最重要的光學(xué)參數(shù)之一。折射率測量儀器已廣泛應(yīng)用于制造業(yè)和科學(xué)研究領(lǐng)域。常用的折射率測量儀器工作原理主要基于光的反射(包括全反射)、折射、偏振、干涉等。早期此類研究主要集中于偏振光及偏振光與材料相互作用的物理學(xué)研究以及儀器的光學(xué)研究。近30年來，計(jì)算機(jī)的發(fā)展使橢偏儀在更多的領(lǐng)域得到應(yīng)用。硬...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。