技術(shù)編號(hào)：5938356
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種空間增益均勻性和分辨率得到改進(jìn)的X射線探測(cè)器。此外，本發(fā)明涉及一種生產(chǎn)這種X射線探測(cè)器的方法。背景技術(shù)X射線探測(cè)器通常包括將入射的X射線轉(zhuǎn)換成光的閃爍體層以及光探測(cè)布置，諸如CMOS光探測(cè)器，其用于探測(cè)在閃爍體層之內(nèi)生成并入射在光探測(cè)布置的檢測(cè)表面上的光。已經(jīng)觀察到，這樣的X射線探測(cè)器可能有幻像的問題。因此，W02008/126009提出使用二次輻射源利用波長不同于入射X射線波長的二次輻射輻照閃爍體層。通過輻照這樣的二次輻射，所提出的X射線探...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。