技術編號：5838835
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。背景技術本發(fā)明涉及一種多晶物質(zhì)的結構(texture)，還涉及測定或量化(quantify)所述多晶物質(zhì)的結構均勻性(homogeneity)的方法。本發(fā)明還涉及濺射目標(sputtering targets)和測定濺射目標中的濺射效率。多晶物質(zhì)的某些性質(zhì)，包括變形性狀(behavior)、磁導率、腐蝕速率和抗電子遷移性，通常都取決于所述物質(zhì)內(nèi)部原子的排列(J.A.Szpunar，TextureDesign for New Application，Proc...
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