技術(shù)編號(hào):5267949
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于材料微加工領(lǐng)域,尤其涉及基于聚焦離子束(FIB)低束流掃描刻蝕的 用于微納材料的尺寸縮減方法及電極制作方法。 背景技術(shù)納米電子器件是繼微電子器件之后的下一代固體電子器件,其發(fā)展目標(biāo)是克服突 破微電子領(lǐng)域器件集成發(fā)展很快就會(huì)達(dá)到的物理及/或經(jīng)濟(jì)上的極限;其主要思想是基于 納米功能材料的量子效應(yīng)來(lái)設(shè)計(jì)并制備納米量子器件,以達(dá)到將集成電路進(jìn)一步減小、替 代傳統(tǒng)的硅器件的終極目標(biāo)。一維/準(zhǔn)一維納米材料由于其獨(dú)特的物理特性以及其在電子、光子及生物傳感等 納...
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