技術(shù)編號(hào)：5134037
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種出焦裝置，特別涉及一種內(nèi)熱式立式半焦?fàn)t干法出焦裝置。 背景技術(shù)目前，現(xiàn)有的半焦生產(chǎn)技術(shù)都是采用濕法出焦裝置，500°C-600°C的半焦直接排入 爐底的水池中，水池水位高于半焦?fàn)t出焦口。濕法出焦裝置的優(yōu)點(diǎn)是在于立式半焦?fàn)t底下 形成很好的密封，防止?fàn)t內(nèi)煤氣從半焦?fàn)t底部露出。濕法出焦裝置的致命缺點(diǎn)是半焦含水 率過高(有時(shí)甚至高于50%)，使半焦的再利用受到限制。為取得含水率較低的半焦，現(xiàn)有 的方法是增加一套烘干裝置，但這種裝置不僅增加了投資，...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。