技術(shù)編號(hào):4799696
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于冷卻設(shè)備的除霜裝置以及使用該除霜裝置的冷卻設(shè)備。背景技術(shù)最近,利用于冷卻裝置的、以R22為代表的代替氟隆的一種、即HCFC (含氬氯氟烴)類的制冷劑,會(huì)對(duì)大氣層的臭氧層造成破壞。另外,作為 該HCFC類制冷劑的替代制冷劑,開(kāi)始利用HFC (含氬氟烴)類制冷劑, 但該HFC類制冷劑具有加劇溫室效應(yīng)的性質(zhì)。因此,正在開(kāi)始采用不對(duì)臭 氧層造成破壞或不產(chǎn)生溫室效應(yīng)影響的HC (烴)類制冷劑。但是,由于該 HC類制冷劑是可燃性制冷劑,故需要將爆炸或著火...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。