技術(shù)編號:4754056
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體器件制造,特別是涉及一種。背景技術(shù)在半導(dǎo)體晶圓的制造工藝中,采用濕法清洗的步驟后,常常會采用異丙醇(IPA) 來達到較好的干燥效果。通常而言,干燥步驟如下(1)開始時采用一段時間的去離子水清 洗,同時向去離子水的頁面通入IPA ; (2)移除清洗晶圓的去離子水,然后進行一干燥步驟;[3]最后使殘留的IPA完全蒸發(fā)。這種方法能達到很好的干燥效果,但是在某些制程,如Al 刻蝕之后的EKC清洗工藝中,裸露在外的Al線如果與去離子水接觸的時間過長,...
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