技術(shù)編號:4568263
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于燃燒包括至少氨的廢氣的設(shè)備和方法。 背景技術(shù),、、、 ,3 "、 ,甬、'么一 ?的化學(xué)反應(yīng)形成薄膜。用于在基片上沉積薄膜的一個已知技術(shù)是化學(xué)汽相沉積(CVD)。在此技術(shù)中,過程氣被提供到容納了基片的處理室且 起反應(yīng)以在基片的表面上形成薄膜。通常沉積在基片上的材料的例子是氮化鎵(GaN)。氮化鎵和相關(guān) 的材料合金(例如InGaN、 AlGaN和InGaAlN)是用于制造綠色、藍(lán)色 和白色發(fā)光器件(例如LED和激光二極管)和功率器件(例如H...
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