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一種拋光墊修整器、拋光墊及硅片的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):40818469

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體加工,尤其涉及一種拋光墊修整器、拋光墊及硅片。背景技術(shù)、化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)(chemical?mechanical?polishing,cmp)屬于化學(xué)作用和機(jī)械作用相結(jié)合的技術(shù),其是半導(dǎo)體制程中獲得全局平坦化的一種手段。cmp處理過(guò)程中,首先待加工硅片表面材料與拋光液中的氧化劑、催化劑等發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成一層相對(duì)容易去除的軟質(zhì)層。然后在拋光液中的磨料和拋光墊的機(jī)械作用下去除軟質(zhì)層,使待加工硅片表面重新裸露出來(lái)。然后再進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),這樣在化學(xué)作用過(guò)程和機(jī)械作用過(guò)程的交替進(jìn)行中完成...
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