技術編號：40613655
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明屬于電子氣體制備領域，具體涉及一種富氫氯化氫原料氣制備高純電子級氯化氫的方法及其設備。背景技術、氯化氫是一種電子氣體，主要用于半導體器件制造過程中的單晶硅片氣相拋光、外延基座腐蝕以及硬質合金的生產。隨著微電子工業(yè)向大尺寸、高集成度、高均勻性和高完整性方向的發(fā)展，電子級氯化氫在單晶硅氣相拋光和外延基座腐蝕中的應用需求越來越高。這不僅要求其純度達到n級以上，還要求盡可能降低碳氫化合物總量（thc）、碳氧化物等雜質的含量。、專利文獻cna公開了一種電子級高純氯化氫制備方法...
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